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A3 September 20, 11:00am-11:45am
130nm及更先进制程的分子过滤系统
Security of AMC Free Environment for Sub-130nm Fab
赵峰,分子过滤工程师
康斐尔法贸易(上海)有限公司
Edward Zhao , Molecular Filtration Engineer
Camfil Farr Trading (Shanghai) Co., Ltd.

发言内容摘要
基于国内将要成为主流的130nm及130nm以下制程,本文主要介绍以下内容:
1.空气中分子级污染物(AMC)的概念范围;
2.基于130nm制程的洁净室分子污染的整体控制方案;
3.分子过滤系统和分子过滤器的的评价;
4.正确理解分子过滤器的功能和性能指标;
5.测试分析系统简介及其必要性。

由于AMC是近年来兴起的一个重要的课题,并且涉及到化学和动力学的综合掌握运用,负责洁净室系统的厂务或动力部门往往在初遇相关问题时很难在这个突如其来的挑战面前短时间内找到最佳方案。本文针对上述现状,提出AMC控制的基本理念和分子过滤器的评价系统。而130nm及以下制程的发展对AMC提出了更高的控制要求,分子过滤系统也被提升到更高的高度,不仅参与MAU,RAH和FFU的过滤系统, 更融入了tool mini-environment(包括SMIF loader),本文所提供的正确的运用分子过滤系统为FAB提高良率和避免不必要的wafer loss和scrap提供重要的保障。同时,测试系统的高要求和必要性也日益突出。一个过滤器供应商的测试能力一定程度上体现了其研发能力和综合实力。

 
发言者简介
赵峰, 毕业于复旦大学环境科学与工程系环境化学专业。先后于复旦大学分析测试中心,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司工作,主要研究方向为污染控制,特别是半导体产业链洁净室中AMC污染的研究。先后在国内与国际杂志发表相关论文3篇。现工作于康斐尔集团在中国的全资子公司担任分子过滤技术服务工作。
 
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